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如前文所述，防腐涂料 附着力划算法HBr/O2对N型掺杂多晶硅的蚀刻率比未惨杂多晶硅高20%，极易产生缩脖效应，因此 HBr/O2的过蚀刻量要严格控制，一般以30%为宜，过少的过蚀刻量会导致多晶硅栅侧壁底部长脚(Footing)，过多的过蚀刻量会导致上部缩脖效应加剧。 等离子表面处理机过蚀刻步骤尽管采用具有针对栅氧化硅较高蚀刻选择比的HBr/O2蚀刻工艺，仍然容易导致硅穿孔(Pitting)及硅损伤。
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一般来讲，的真空plasma表面处理设备所使用的真空泵组分为三大类，一类是旋片真空泵加罗茨真空泵的油式泵组；另一类是螺杆真空泵+罗茨真空泵的干式泵组；还有一类是分子泵加分子泵的机械泵组。大腔体的真空型表面等离子处理设备机需采用真空泵组，并且真空泵组的选择也十分讲究，如果想了解产品的详细内容或在设备使用方面有任何疑问，欢迎点击 在线客服咨询， 恭候您的来电！。
2.自由电子的能量由其速度V决定，从原子和分子的内部结构分析，根据量子力学原理，它们可以处于大量不同能态中的任意一种，这些能态可以按照能量的大小排列成能级图。3.原子的能级图是由原子内部的所有粒子决定的。未受扰动的原子和分子一般处于最稳定的基态能级，但我们只对最外层电子即价电子的能量感兴趣，因为这些电子主要参与气体放电过程。价电子从外界得到额外的能量，它可以跃迁到更高能级，原子处于激发态。
因为功率规模基本稳定，频率是影响等离子体自偏压的关键参数，跟着频率的添加自偏压逐渐下降。此外，跟着频率的添加等离子体中电子的密度也会逐渐添加，而粒子均匀能量逐渐下降。 2.4作业气体的挑选对等离子清洗效果的影响工艺气体的挑选是等离子清洗工艺规划的关键步骤，尽管很多时分大多数气体或气体混合物都能对污染物起到去除效果，但清洗速度却能相差几倍甚至几十倍。
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