常温电晕设备中的表面电晕改善材料表面性能的机理大致可以考虑为：在常温表面电晕反应室内，6k千瓦大功率电晕处理机低压工作蒸气中的电子被电场加速，蒸气因电子及衍生的离子、原子碰撞而电离，从而引起常温表面电晕。在PTFE大功率射频双层pcb电路板的制孔中，重点是铜的制备，也是关键的一步。在表面电晕技术应用之前，印刷电路板制造主要依靠各种化学处置方法，对需要在表面沉积金属的部分进行活化改性。
氮化镓基站PA具有比其他材料更高的功放效率，6k千瓦大功率电晕处理机因此可以节省大量电能，而且它几乎可以覆盖无线通信的所有频段，功率密度高，可以减小基站的体积和质量。氮化镓在光电子、高温大功率器件和高频微波器件等方面具有广阔的前景。随着5G高频通信商用，GaN将在电信宏基站占据更多份额，真空管将在雷达和航电应用占据更多份额。
例如，大功率电晕处理机电子与电子碰撞达到热力学平衡，有一个特定的温度叫做电子温度。离子体-离子体碰撞的热力学平衡有一定的温度Ti，称为离子体温。但由于电子与离子体的质量差异，虽然也发生碰撞，但不一定达到平衡，所以Te和Ti不一定相同。如果放电发生在接近大气压的高压环境中，电子、离子和中性粒子通过激烈碰撞交换动能，使电晕达到热力循环。三个粒子在相同温度下的热力学循环电晕称为热电晕。
常压电晕设备可去除金属、陶瓷、塑料、玻璃等外层的有机污染物，6k千瓦大功率电晕处理机可明显改变其结合性能和焊接强度。常压电晕设备的电离过程易于控制和安全重复。高（高效）表面处理是提高产品可靠性和工艺效率的关键，电晕技术也是目前较为理想的技术。常压电晕设备可以通过外层活化提高大多数物质的性能：清洁度、亲水性、排水性、附着力、润滑性和耐磨性。
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为了保证集成电路的集成度和器件性能，需要在不破坏芯片等材料表面特性和电学特性的前提下，对芯片表面的这些有害污染物进行清洗和去除。否则，它们将对芯片性能造成致命的影响和缺陷，大大降低产品的合格率，并将制约器件的进一步发展。目前，器件生产中几乎每一道工序都有清洗步骤，其目的是去除芯片表面的污染和杂质。
施加足够的能量使气体电离，就变成了电晕状态。电晕的“活性”成分包括：离子、电子、活性基团、激发核素（亚稳态）、光子等。电晕表面处理仪器就是利用这些活性组分的性质对样品表面进行处理，达到光刻胶清洗、改性、灰化的目的。
真空电晕有很多优点：如采用数控技术，自动化程度高；具有高精度控制装置，时间控制精度高；正确的电晕清洗不会在表面产生损伤层，表面质量能得到保证；清洗工作在真空环境下进行，清洗过程环保安全，不会对环境造成污染，有效保证清洗后的表面不会受到二次污染。。下面小编介绍一下真空电晕的工作原理。由于电晕中存在电子、离子、自由基等活性粒子，它可以与固体表层本身发生反应。
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