频率选择：在低频的情况下，附着力大于2级液体受压与受拉的时间变长；因此空化生成的时间也长，体积也长，而空化闭合时所产生的冲击力又与空化泡的大小成正比。所以频率越低，空化越强烈。而我们用于工业清洗中的频率一般小于60KHz，用的很多的是在20～40KHz之间。使用20KHz左右的频率，可以得到相对小数量的空化泡，但有大的空化强度，并且伴有噪音，可用于清洗大部件表面与物件表面结合强度高的工件。
另一种方法即在光缆表面直接喷码，附着力大路面其成本低、效率高、印字内容及字体大小可随时调整； 印字清晰美观，即使出现喷码错误时也易于重新喷印、而且印字不会对光缆线本身性能造成影响；唯(一)的缺点就是粘结性能差，表面喷码内容容易被磨损掉。
上光工艺中UV上光相对较复杂一些，附着力大于2级出现的问题可能更多一点，目前来说,因UV油与纸张的亲和力较差，而造成在糊盒或糊箱时经常会出现开胶的现象，而复膜后,因膜的表面张力及表面能会在不同的条件下有不同的值，大小忽异，再加上不同品牌的胶水所表现出的粘接性能不同，也经常会出现开胶现象，而一旦产品交到客户手上再开胶，就会有被罚款的可能，这些都令各厂家较烦恼，有的客户为了尽量减少出现以上情况，不惜加大成本尽量采购进口或国产上等糊盒胶水，但如果对化学品的保管不当，或其他原因，有时还是会出现开胶现象。
相信您对对等离子清洗机的作用、性能、性能等有或多或少的了解，附着力大路面在此先反问一下，您对需要处理的产品形态特征、耐候温度、产量要求、均匀度要求、加工目的、生产环境等方面是否有一个大概的了解，这有助于您选择等离子清洗机品牌。
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等离子清洗/生产等离子蚀刻机设备，在密封容器中设置两个电极形成电场，在真空室中抽真空一定程度，随着气体越来越薄，分子之间的距离越来越远，分子或离子，自由的运动距离也越来越大，是一个电场，它们之间的碰撞形成等离子体，等离子体的活性越来越高，它的能量可以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起反应，不同的气体等离子体有不同的性质，如氧等离子体具有较高的氧化性，可以氧化光刻胶反应产生的气体，从而达到清洗的效果;刻蚀气体等离子体具有良好的各向异性，因此可以满足刻蚀的需要。
等离子处理系统：等离子表面处理机系统，几乎适用于各种工艺的高效、简便的“在线”处理工艺对于那些制品的表面特性zhen对后续工艺是决定性因素的加工过程而言，等离子处理技术是一种普适而又有效的改善表面的手段。 这种常压等离子处理机技术可以有选择性地清洗、活化、或者涂装包括塑料、金属、玻璃、薄膜或者织物等材料在内的各种素材。
相比之下，等离子设备中干法刻蚀氮化硅对金属硅化物的选择性比小于湿法刻蚀。通过控制工艺时间和控制刻蚀量，可以达到控制硅化物损伤的目的。等离子体器件的应力越接近蚀刻，金属硅化物损伤越严重，金属硅化物的电阻越高。另一方面，由于侧墙被完全或部分去除，降低了后续填充的纵横比，提高了后续接触通过停止层和层间介质层的填充性能。。
等离子刻蚀清洗机ICP刻蚀技术广泛应用于SiC的刻蚀应用：反应烧结碳化硅(RB-SiC)作为一种新型的陶瓷材料具有高的强度、比刚度、大热导率和小膨胀系数等特点.随着光学技术的快速发展光学系统朝着大口径、低损耗和轻量化的方向发展要求光学元件具有高分辨率、广视场以及高质量的表面形貌。。
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