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等离子体清洗是利用被清洗表面的离子、电子、激发态原子、自由基及其与污染物分子的活化反应来去除污染物的过程。电子在清洁金属表面中的作用:等离子体中的电子与原子或分子碰撞，载玻片清洗仪形成被激发的中性原子或自由基(也称为自由基)，这些中性原子或自由基可以与污染物分子发生反应，清除金属表面的污染物。

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基面加工主要是面向IC封装生产工艺，载玻片清洗仪取出铅键合、倒装芯片封装生产工艺，取出材料箱内的柔性板并进行等离子清洗，去除数据表面污染，无人为干扰。既然设备效率已经如此之高，那么就让我们对在线等离子清洗设备流程有一个具体的了解:(一)将4个物料盒的柔性板填充放置在采集通道中，(B)上下料传动系统通过压轮和皮带传动将上下料输送到物料交换通道的高平台，(C)连接料片的通道与等离子体反应室下部连通。

随着细线技术的不断发展，载玻片清洗pitCH20&MU已开发出M、10 & mu产品。由于ITO玻璃表面的洁净度很高，因此对ITO玻璃的可焊性要求很高。应经久耐用，表面不应留有各种有机(机械)和无机杂质，防止ITO玻璃电极与ICBUMP之间传导。因此，ITO玻璃的清洗是非常重要的。在目前ITO玻璃清洗工艺和COG-LCD生产工艺的应用中，大家都在尝试应用酒精和超声波清洗来处理玻璃。

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近表层，也被称为风化表层，含有碱性氧化越是玻璃(如钠玻璃、铅玻璃)由于其碱性氧化物化学稳定性差，容易被水蒸气侵蚀，所以越容易风化。风化的表面层通常有几微米厚。在风化的表面层中有很多气体，尤其是水。风化的表面层可以用酒石酸溶液浸渍或用等离子体轰击去除。酒石酸溶液浸泡是清洁的有机清洁溶剂，不易洗掉，也可清洁阴极面板表面。在这一传统工艺中，除了需要大量的酒石酸溶液、去离子水和酒精外，还需要较长的加工时间。

当油浑浊(油色灰褐色或油位窗模糊)，真空泵有异常噪音时，应及时更换真空油。清洗反应室:首先用无水乙醇(俗称酒精)擦拭脱脂棉布(不要用乙醇擦拭反应室观察玻璃)。其次，腔体导入(氩气+氧气)或(氮气+氧气)，使用等离子体清洁器清除腔内的残留物。每月至少工作10分钟。检查气体管路的完整性和真空密封:定期检查真空系统的完整性，对反应室进行彻底的清洗，避免漏出反应室中的污染物。定期检查反应室门密封条是否松动。

通常放电气体的压力可达1atm (1atm = 1.013X 10^5 Pa)，所以DBD放电属于高压下的非热平衡放电，也称无声放电。普通等离子清洗仪的DBD放电装置通常由两个平行电极组成(如图1-5所示)，且至少有一个电极被介电材料覆盖。为保证放电的稳定性，两电极之间的距离通常为几毫米，需要正弦或脉冲高压电源在大气压下放电。DBD放电电抗器由三部分组成:高压电极、介电电极和地电极。

通过其处理，可以提高材料的润湿能力，使各种材料可以进行涂覆、镀等操作，增强附着力、结合力，同时去除有机污染物、油污或润滑脂。小型真空等离子清洗仪5L的具体应用包括:1、塑料、玻璃和陶瓷表面活化玻璃、陶瓷和塑料(如聚丙烯、聚四氟乙烯等)本质上是非极性的，所以这些材料在结合、涂漆和涂层之前进行表面活化。

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通常化学方法复杂，载玻片清洗多少酒精使用大量有毒的化学试剂，容易污染环境，对人体危害很大。相比之下，低温等离子体表面处理技术具有工艺简单、操作简单、易于控制、对环境无污染等优点，越来越受到人们的青睐。真空等离子清洗机有好几个标题，又称真空等离子清洗机、清洗装置、清洗仪器、蚀刻机、如表面处理机、等离子清洗机、等离子清洗机、灌胶机、等离子清洗机等。