我们经常使用氢气(H2)、氮(N2),氧气(O2)、氩(Ar)甲烷(CF4)等等离子清洗机的过程是非常简单的金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料数据,如聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺,polychloroethane,环氧树脂,甚至聚四氟乙烯,因此让我们非常简单的协会:去除零件上的油，电路板等离子表面处理机器去除手表上的抛光膏，去除电路板上的胶渣，去除DVD上的水线等。
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