关于毒性和副作用:湿化学水处理溶液和酸具有极强的毒性和副作用,二氧化硅plasma蚀刻机等离子体清洗反应所需的大部分空气环境是无毒的。长时间使用等离子清洗不会伤害相关人员的身体或身体。与传统的化学水处理相比,等离子有几个特点。等离子体基于使用电来催化化学物质。等离子体变化而不是热量,导致超低温环境。等离子解决了湿法化学水处理的风险,是独一无二的。与清洗相比,清洗后没有废水。

二氧化硅plasma蚀刻机

清洁和恢复活力的方法有很多,二氧化硅plasma蚀刻机化学溶剂一直是最受欢迎的选择,但超过 50% 的挥发性有机化合物 (VOC) 排放是由于使用溶剂造成的。表面能是保证附着力和附着力的关键因素。涂层是否具有粘附到基材所需的粘合强度很大程度上取决于表面能。良好的附着力需要对材料表面进行超细清洗,并且固体材料的表面能高于液体的界面张力。基于化学溶剂的预处理过程对环境有害,通常不健康,能耗和处置成本高。

与使用有机溶剂的传统湿式洗涤器相比,二氧化硅plasma蚀刻机等离子清洁器与使用有机溶剂的传统湿式洗涤器相比具有九大优势:下一道工序。可以提高整个工艺线的加工效率。 2.等离子清洗可以让用户避免使用对人体有害的溶剂,同时也避免了被清洗物容易湿洗的问题。 3.避免使用三氯乙烷和其他有害的消耗臭氧层物质。因此,这种清洗方法是一种环保的绿色清洗方法。当世界高度重视环境保护时,这一点变得越来越重要。四。

3、调整适当的真空度:适当的真空度可以增加电子运动的平均自由程,二氧化硅等离子表面处理机器所以从电场中获得的能量大,适合电离。此外,如果必须保持氧气的流动,真空度越高,氧气的相对比例就越高,产生的活性粒子浓度也越高。但是,如果真空度太高,活性粒子的浓度反而会降低。四、氧气流量的调节:氧气流量大,活性粒子密度大,脱胶速度加快,但流量过大,离子复合概率增加,电子平均自由程增加。运动会更短,电离强度也会降低。

二氧化硅等离子表面处理机器

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展开泰勒级数中的方程(1-6)并采用二次近似来执行以下操作: NE (R) = NEO [1 + E & PHI; (R) / KTE] (1-7) 方程(1-7) 代入赋值方程(1-5),得到以下方程。将其代入泊松方程得到以下方程:如图1-1所示,半径称为德拜球。德拜球外的库仑势可以忽略不计。德拜长度的物理意义引用如下。 (1) 等离子体对作用在其上的电位有屏蔽作用,屏蔽半径为德拜长度。

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