等离子体清洗等离子体表面清洗离子清洗是通过物理溅射或气体电离后产生的等离子体在污染表面上的化学反应来分解污染物，附着力测定标准分解后的产物随气流从表面带走，得到干净干燥的表面。
还有等离子清洗机，划格法漆膜附着力测定标准物理和化学反应都在表面反应机理中起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗相互促进，离子冲击作用于表面。弱化化学键或形成原子状态，更容易吸收反应物，离子碰撞加热被清洗物，使反应更容易。效果不仅限于出色的选择性、清洁速度和均匀性。 ，也是一个很好的方向。典型的等离子物理清洗工艺是氩等离子清洗。氩气本身是惰性气体，等离子氩气不与表面反应，但会通过离子冲击清洁表面。
3、喷嘴的结构不同：常压等离子清洗设备有直喷和旋转型的喷嘴，附着力测定标准直喷的面积小，能量高，旋转的喷嘴范围广，力道较小，根绝处理工艺的不同选择不同的喷嘴。而真空等离子设备是腔体，只要把材料放进真空腔体内，都可以被处理到。4、选用气体也不同：常压等离子清洗机使用的就是普通的压缩空气，而真空等离子清洗设备的真空腔不一样，它可以面对各式各样的工艺材料进行处理，也可以接入多种气体，例如有氧气、氢气、氩气等等。
在等离子体形成过程中，附着力测定标准在高频电场作用下处于低压状态的氧气、氮气、甲烷和水蒸气等气体分子，在辉光放电的情况下可能会分解为加速的原子和分子。以这种方式产生的电子被电场加速并与周围的粒子相互作用以获得高能量。当一个原子或原子发生碰撞时，原子的分子或电子被激发，变成激发态或离子态。此时物质的存在状态为等离子体状态。
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3.后蚀刻处理一般来说，在等离子清洗机等离于体干法蚀刻完成后，会引入一步酸性或碱性的湿法清洗以彻底去除等离子体蚀刻在晶圆上形成的副产物从而避免二次反应。GST是一种金属合金，任意一种酸或碱都会造成严重腐蚀，因此GST等离子体蚀刻只能使用浓度较低的酸(或碱)性湿法清洗剂， 对GST蚀刻生成的含金属元素的副产物的清洗效果较差。
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