SIH4 + SIH3 + N2 用于氮化硅沉积。温度为300℃，硅烷化处理EP管沉积速率约为180埃/分钟。非晶碳化硅薄膜是通过添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。其中 X 是 SI / SI + C 的比率。硬度超过2500kg/mm2。等离子将聚合物薄膜沉积在多孔基材上，以形成选择性渗透膜和反渗透膜。可用于分离混合气体中的气体，分离离子和水。
西南桦是西南地区经济价值较高的速生木种，硅烷化处理是什么意思结构精细，花纹美观，加工性能优良，是理想的地板和家具木材。以挥发性三甲基氯硅烷（TMCS）为单体，在等离子体环境下将甲硅烷基引入木材表面，使木材表面硅烷化，使木材表面具有疏水性，扩大了木材的使用范围，提高了耐久性。等离子表面处理被认为是一种经济环保的处理方法，因为它使用少量的化学药品，反应在低温下进行。
即使在不同温湿度条件下连续老化28天后，铝合金硅烷化处理木材表面仍表现出稳定的疏水性，老化后接触角降低仅为1.9°。 ~ 3.7°在等离子体环境下，TMCS与西南桦木表面发生反应，将甲硅烷基引入木材表面，硅含量达到22.82%。处理后的木材表面形成均匀的颗粒结构，大大提高了木材表面的疏水性和疏水稳定性。
广泛应用于电子工业、化工、光学等领域。一种等离子体沉积的硅化合物，铝合金硅烷化处理使用 SIH4 + N2O（或 SI (OC2H4) + O2）产生 SIOXHY。气动压力 1-5 Torr (1 Torr & ASYMP; 133 Pa)，输出为 13.5MHZ。 SIH4+SIH3+N2用于氮化硅沉积，温度300℃，沉积速率180埃/分钟。非晶碳化硅薄膜是通过添加硅烷和含碳共聚物得到SIXC1+X:H得到的。
铝合金硅烷化处理
由于等离子体的作用，纳米粒子表面产生大量羟基（-OH）等活性基团，硅烷偶联剂水解产生的硅烷醇键反应形成氢键。纳米粒子表面经等离子体处理后，出现强吸收峰，硅烷偶联剂与纳米粒子形成良好的相互作用，大量硅烷偶联剂包覆在纳米粒子表面，如图所示。 ..等离子处理和非等离子处理的纳米粒子的吸收峰基本相同，表明等离子处理并没有改变纳米粒子本身的化学键。
对纳米粒子表面进行等离子体处理，可以有效提高纳米粒子与硅烷偶联剂的偶联效果，从而提高纳米粒子在聚酰亚胺复合薄膜中的分散性能，提高纳米粒子与聚合物的分散性能。矩阵区域之间的增加。胶层通过硅烷偶联剂与有机/无机两相紧密接触，相互作用强，耐电晕性强。在边界层，形成高分子链与键合层和无机纳米粒子的相互作用，耐电晕性略弱于键合层。松散层是与边界层相互作用较弱的界面，其抗电晕性较弱。
等离子清洗技术-如何处理铝合金阳极氧化膜等离子清洗技术越来越多地被主要制造商使用。今天小编分享了等离子清洗技术对典型航空铝材硫酸阳极氧化效果的影响。作为合金材料的处理方法，对等离子清洗后的阳极氧化膜层进行中性盐雾试验。这种处理方法实际上已被证明在不（降低）铝合金阳极氧化膜的耐腐蚀性的情况下保证了制品氧化膜保护的可靠性。
不同方法处理的涂层附着力测试比较表明，经溶剂处理的物品上的附着力测试涂层剥离不良，溶剂处理不能去除任何污渍。在等离子处理后涂覆制品后测试涂层附着力。 1 级要求。铝合金经硫酸阳极氧化后，对经硫酸阳极氧化后的铝合金表面进行清洗，以提高镀层质量。结果表明，等离子清洗技术处理后的铝合金阳极氧化膜的腐蚀性有所提高。
硅烷化处理EP管
三种综合频率的机理不同，铝合金硅烷化处理40KHZ的反应主要是物理的，而13.56MHZ的反应既是物理的又是化学的，20MHZ的反应主要是化学的。因此，您需要在做出选择之前考虑该过程。等离子腔体材料选择：目前常用的材料有石英腔体、不锈钢腔体和铝合金腔体。
