等离子体喷涂设备等离子体适合处理的材料有聚丙烯（PP）、聚乙烯（PE）、聚氯乙烯（PVC）、聚苯乙烯（PS）、高抗冲聚苯乙烯（HIPS）、ABS、PC、EPDM、聚酯（PET、APET）、聚氨酯（PUL）、聚甲醛、聚四氟乙烯、乙烯基、尼龙、（硅）橡胶、玻璃、有机玻璃等各种高分子材料及玻璃、陶瓷。处理后材料表面附着力通常可达55~80达因/厘米。
大气等离子清洗机強化后明显增强了材质的亲水性和抗应力腐蚀等特性: 当应力波的压力峰值超过材质的弹性限一定时间，采用氧气等离子体明显降低了薄膜中氧空位的缺陷浓度,并且氧空位浓度会随着处理时就会在材质表层形成密集稳定的位错结构，也可能产生孪晶等显微缺陷的同时，使材质表层产生应变硬化。残留压应力的具有将转变结构表面的应力场划分增强材质的疲劳强度。在这两种因素的共同作用下，大气等离子清洗机強化后明显增强了材质的亲水性和抗应力腐蚀等特性。材质的显微结构直接影响着材质的表面特性。
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5、 等离子清洗设备是一项全新的高新技术，采用氧气等离子体明显降低了薄膜中氧空位的缺陷浓度,并且氧空位浓度会随着处理时利用等离子体来达到常规清洗法无法达到的效果。它是利用这些活性组分的性质对样品进行表面处理，从而达到清洁、涂层、改性、光刻胶灰化等目的。。元件表面的微米杂质颗粒物对微纳制造、光电器件开发和应用等方面有着极大的危害，因此，研究其合理有效祛除方法有着实际意义。采用传统清洗方法祛除颗粒物，（效）果不佳，难以满足要求。
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4.材料外表聚合形成沉积层，有助于提高材料外表的粘结力。采用低温plasma等离子难粘塑料时，不需要再次使用国际进口高档胶水，用普通胶水就能保证鞋的牢固，这样就能提高产品质量。 深圳 等离子设备专业厂家，自主研发了几种适合不同清洁领域的等离子清洗机。它能够帮助更多的企业避免许多工艺过程中遇到的棘手问题，如粘贴不牢、油漆脱落等。只要plasma等离子清洗，您的产品就可以持续稳定，长期保持。
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表8.2不同流量配比的Cl2/CH4/N2/Ar蚀刻结果RunNo.Cl2/sccmN:/sccmAr/sccmEtchRate/(μm/min)SelectivityInP:SiO2RMS/nm150101.11328.7:1>2525370.49311.5;118.2235550.40713.0:115.8845730.3229.35:11.0758350.76817.0:1>2568530.67317.2:16.30 以上几类方法都是在ICP机台中实现的，而早期在RIE的机台中也有过相关研究，去探 寻压力对蚀刻磷化铟的影响。
超低温蚀刻工艺所需的硬件设置与典型等离子表面处理机的电感耦合等离子（ICP）蚀刻设备非常相似，但增加了液氦或液氮冷却设备作为等离子气体源。假设使用SF和O2，通过电子回旋共振（ECR）刻蚀，将硅晶片衬底的温度设置为-℃，也可以实现深硅沟槽或高纵横比硅结构。..当等离子表面处理设备在低温ECR刻蚀过程中增加O2的相对流量时，硅刻蚀速率显着提高，F含量与O2含量的比值在刻蚀过程中起重要作用。
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为后续CCP机器的开发赢得了时间。 20世纪初，采用氧气等离子体明显降低了薄膜中氧空位的缺陷浓度,并且氧空位浓度会随着处理时泛林半导体蚀刻机市场占有率位居前三。另一位与等离子清洗机等离子刻蚀相关的硅谷英雄是 David Wang 博士，他出生于中国南京，毕业于中国台湾正元大学化学工程系，获得硕士学位。他于 1970 年获得犹他大学冶金学学位和加州大学伯克利分校材料科学博士学位。 1977年起在新泽西州贝尔实验室总部从事等离子刻蚀和化学气相沉积研究。
经低温等离子体处理技术处理后，等离子体ccp试品表面-O-O-C数量提升，但是，随着低温等离子机处理时间的延长，表面-C-O-C的数量逐渐减少，原因在于处理时间的延长，氧化性提升，氧化层增厚，在试品表面引起-C=O的作用进一步使试品氧化为-C=O。。
