该涂层的优点是极薄，纳米磁性表面改性在纳米方面，通过完整的自动化功能可以实现大规模生产和连续的工艺流程。具有多种选择、低温操作、无需溶剂等优点，适用于单件产品和散装件。
使用大气等离子表面处理技术处理有机化合物的优点如下： （1）满足干燥工艺、省电、无污染、节能环保的要求； (2) 短时间内效率高； （3）对形状无严格要求，纳米磁性表面改性加工通用； (4)可处理各种形状的凹槽，产品表面处理均匀性好； (5)反应环境温度低； (6)改善效果外观只有几百纳米。所有材料的功能均不受影响。
改变金属的纳米规格可以调控表面plasma体的共振波长。 另外，纳米磁性材料的表面改性金属纳米结构也会减小萤光的使用期限，减弱萤光发光强度或造成萤光的猝灭。当纳米结构仅与激发光场共振时，量子点荧光寿命保持稳定;当纳米结构与量子点萤光共振时，可提高量子产率，另外量子点荧光寿命减小。得到的量子点发光使用期限、发光强度和饱和激发功率，均受到金岛膜的调制作用。
一些涂层旨在保护设备免受腐蚀，纳米磁性材料的表面改性而另一些涂层旨在防止组织损伤、感染或排斥。其他生物医学装置，例如血管生成球囊，必须具有单独的隔膜和均匀且固定的厚度才能正常运行。纺织品纳米等离子涂层防水：通过低压等离子聚合或原子层沉积对纺织品的织物和皮革进行防水，并且可以自由排出水蒸气和汗水。纤维表面包裹了一层纳米层，织物内部不能储水，完全阻止了霉菌的生长，防止霉菌形成支架。
纳米磁性材料的表面改性
所谓自旋转移矩，是指当自旋极化电流通过纳米尺寸的铁磁层时，可使铁磁层中的原子磁矩发生变化。这意味着可以直接用电流驱动磁隧道结，电子自旋极化后，对铁磁原子产生力矩以改变铁磁层内磁化方向来实现电阻的变化。因此存储器的面积和性能都可以得到改善。1T1M (One Transistor One MTJ)自旋转移矩磁性存储器存储单元结构，在用字线和晶体管选中磁隧道结后，通过位线进行写人操作。
紫外光解是一种双光谱特性，使用特殊的低压紫外灯同时发射185纳米和254纳米紫外线。发射的185nm紫外光，能够在空气中触发02(氧)，并转化成03(臭氧)。臭氧层具有很强的氧化能力，与废气中的烃(如苯、烃、醇、脂等)充分混合接触。)，在灯管发出254纳米紫外线的催化条件下，可直接氧化分解H2O和CO2。
这种弱的边界层来自聚合物本身的低分子成分，聚合加工过程中所加入的各种助剂，以及加工和储运过程中所带人的杂质等。 这类小分子物质极容易析出、汇集于塑料表面,形成强度很低的薄弱界面层，这种弱边界层的存在大大降低了塑料的粘接强度。 低温等离子体处理表面活化改性，有效改善难粘塑料的粘接问题，为解决行业应用问题提供了等离子体技术解决方案，你值得拥有！。
目前对基板的预处理方法主要有湿法清洗和干法清洗，而湿法清洗是一种主要通过酸性或碱性溶液蚀刻对基板表面进行改性的方法，具有较大的局限性，也是造成环境污染的原因。干洗，如等离子清洗，避免在湿洗中使用酸碱溶液，降低腐蚀风险，消除环境污染。因此，干洗受到广泛关注。等离子体是一种电中性、高能、完全或部分电离的气态物质，含有离子、电子和自由基等活性粒子，在高温等条件下。
纳米磁性材料的表面改性
由于其稳定的化学性能，纳米磁性表面改性硅油常常作为发光材料的封装材料而在发光器件中得到应用。近年来对非晶Si:C:O:H光发射材料的研究表明材料的光致发光性能与薄膜中的键结构、缺陷、纳米颗粒和团簇有关。硅油的键结构可以直接用在线式等离子清洗机Ar等离子体处理而改变，因此，可以采用在线式等离子清洗机设备处理硅油来改变硅油结构或制备非晶Si:C:O:H薄膜，获得具有光致发光特性的改性硅油或非晶Si:C:O:H薄膜。
采用适宜的工况条件对炭材料进行改性，纳米磁性表面改性可以显著改变炭材料的表面理化性质，进而增强炭材料对环境中特定污染物的吸附性能。由于竹炭颗粒的粒径很小(75~ 150μum)，带有类似海绵结构的竹炭微粒，表面有大量的孔结构，这些孔主要是由竹材上的维管束、薄壁细胞和导管所形成。炭化过程中，这些孔隙内部的有机成分在高温下充分挥发，残余的孔洞就成为竹炭表面主要的孔结构。
