等离子体作用于材料表面使其产生一系列的物理、化学变化,利用其中所包含的活性粒子和高能射线,与表面有机污染物分子发生反应、碰撞形成小分子挥发性物质,从表面移除,实现清洁效果。 1）对材料表面的刻蚀作用–物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，有机硅对层间附着力的影响作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。
6.半导体/LED解决方案等离子在半导体行业的使用是根据集成电路的各种元器件及连接线很精密，层间附着力的影响那么在制程进程中就简单呈现尘埃，或者有机物等污染，极端简单构成晶片的损坏，使其短路，为了要扫除这些制程进程中产生的问题，在后来的制程进程中导入了等离子外表处理机设备进行前处理，运用等离子外表处理机是为了更好的保护我们的产品，在不损坏晶圆外表的功能的情况下来很好的运用等离子设备进行去除外表有机物和杂质等。
并且随着等离子技术的不断引用，层间附着力的影响它在使用性能上也得到了很大发展，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 等离子清洗机外接一台真空泵，工作时清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面，短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被真空泵抽走，其清洗程度达到分子级。
超声等离子体的自偏压约为0V，层间附着力的影响射频等离子体处理器等离子体的自偏压约为250V，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，三种等离子体的作用机理不同。超声等离子体的反应是物理反应，射频等离子体处理器的反应是物理化学反应，微波等离子体的反应是化学反应。由于超声等离子体对清洗表面影响较大，在半导体清洗和激活键合的实际生产应用中，常采用射频等离子体处理器等离子体清洗和微波等离子体清洗。。
有机硅对层间附着力的影响
前不久，中科院合肥市化学物质科学研究研究员黄青与公司战略合作，察觉诺氟沙星、土霉素、四环素等抗（生）素残留物可通过电浆清洗机技术快速降解。国家(国际)环境学术期刊《光化层》前不久发表。医院、制药业和水产养殖业排放的废水往往含有大量的抗(生)素残留物。污水未经处理直接排放，会严重影响生态平衡，危及人类健康。电浆清洗机被认为是固体、液体和气体以外化学物质的第四态。
二氧化碳增加对脱氢C2H6等离子体条件下:二氧化碳的影响之外的脱氢生成乙烷800焦每摩尔的等离子能量密度下如下:与纯C2H6等离子体条件下的脱氢,生成乙烷转化率的增加而增加的二氧化碳增加。这是因为在等离子体条件下，CO2可以与等离子体产生的高能电子发生反应，产生热解反应:CO2+e*& Rarr;CO+O，生成活性氧。
(2)工作气体种类也会对等离子表面清洗方式产生一定的影响 如惰性气体Ar2、N2等受激发产生的 等离子体，主要是靠轰击来清洁材料表面；但反应性气体O2、H2等激发产生的等离子体主要用于化学清洗，在活性自由基的作用下，与污染物(大部分是烃类物质)发生反应，生成一氧化碳、二氧化碳、水等。从材料表面除去的分子。(3)等离子表面清洗方式会影响清洗（效）果。
等离子清洗机低温等离子装置使用注意事项：如果要对各种材料的表面进行清洗、活化、腐蚀、沉积或聚合，则需要使用等离子清洗机的低温等离子设备。常用于实验室。在高精度设备的情况下，使用的低温等离子设备操作不当，很可能会损坏设备，影响运行效果，所以我们今天就来使用低温等离子设备。
层间附着力的影响
（2）线路板制造行业应用 智能制造 等离子蚀刻机的蚀刻在电路板制造行业得到了很早的应用。硬电路板和柔性电路板在生产过程中都会去除孔内的胶水。传统工艺采用化学清洗方法。然而，层间附着力的影响随着电路板行业的发展，电路板越来越小，孔越来越小，化学药物越来越难去除孔内的胶水，孔越小，咬蚀难以控制，也会造成化学残留，影响后期工艺。
