本实用新型结构简单，陶化后附着力不够操作方便，机械手可以高效、快速地进行光等离子加工和去应力，大大降低应力。适用于提高生产效率和产量。这些包括设备平台、样品架、样品等离子清洗站、样品旋涂站和位于设备平台上的样品卸载机构、放置在样品等离子清洗站上的用于清洗样品的样品架和等离子。
等离子体电离辐射的主要来源是等离子体中粒子，陶化后附着力不够尤其是电子的运动变化。除了束缚电子之外，还有可以不断改变动能的自由电子。当它与其他粒子碰撞或受到其他外部磁场的影响时，它的运动状态会发生变化，并响应其能量状态的变化而发出跳跃的电离辐射。等离子体电离辐射的研究对于大气压等离子体处理器具有重要意义。一方面，大气压等离子体处理器的电离辐射发射能量，造成等离子体能量的损失。
到达基板的电子一部分与离子复合，陶化后附着力不够还有一部分剩余，从而在基板出现净负电荷积累，这样基板表面呈负电势。该负电势将排斥后续电子，同时吸引正离子。直到基板负电势达到某个值，使离子流与电子流相等时为止。由于基板呈负电势，则在基板与等离子体交界处形成一个由正离子构成的空间电荷层，即离子鞘层。等离子体分类按温度分类：高温等离子体和低温等离子体。高温等离子体是高于 00℃的等离子体，如聚变、太阳核心。
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