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湿法刻蚀是利用溶液与预刻蚀材料发生化学反应,PFC等离子体表面处理设备去除未覆盖的区域,达到刻蚀目的的纯化学反应步骤。干法蚀刻的种类很多,主要有挥发性、气相和等离子腐蚀。等离子蚀刻是最常见的干蚀刻形式。等离子刻蚀机的基本原理是将ICP射频形成的射频输出到环形耦合线圈,产生一定比例的混合刻蚀气体。通过结合光放电形成高密度。等离子体。

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