真空等离子清洗机通过两个电极形成电磁场，镀层厚度及附着力检测仪用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有(机)物，以及其它化学物质，从而达到表面处理、清洗和刻蚀效(果)，经过等离子处理工艺可以实现有选择的表面改性。
因此，镀层厚度及附着力检测仪如果发现等离子体表面垫圈的侧壁蚀刻的主蚀刻步骤的终点监测被暴露，则立即停止蚀刻并切换过蚀刻步骤。主刻蚀步骤中残留的氮化硅膜通过过刻蚀步骤被刻蚀去除，同时停止在氧化硅膜上，以防止损坏下面的硅衬底。过蚀刻步骤通常使用 CH3F 或 CH2F2 和 O2 气体的组合。 CH3F 气体分解为 CHx 和 F. + H。等离子体中的撞击离子会破坏 Si-O 键。
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低压真空等离子清洗机是依靠等离子状态下的物质活化，镀层厚度和附着力去除物体表面污渍的清洗设备。这就是工业清洗中的干洗，真空泵必须创造真空条件才能满足清洗要求，所需要的等离子体主要是在真空、放电等特殊情况下产生特定的气体分子，如低压气体灿烂等离子体。等离子体清洗必须在真空中进行，所以要用真空泵来完成真空工作。
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，是一种常用的等离子电源。还有一个40KHZ的中频电源，与射频电源相反，等离子密度没有那么高，但强度大。能量高，高度也高。功率也很高，大功率几十千瓦，理论上几百千瓦，一般用于去污、蚀刻和真空等离子清洗机。如果使用中频电源，需要加水冷。也是常用的等离子电源。
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