大型在线真空等离子设备适用范围广，纳米二氧化钛具有亲水性不分加工材料类型，加工处理均可完成，如金属材料、半导体晶片、金属氧化物及大部分纤维材料都能很好地加工处理；作用时间短，反应速度快，反应级数高，加工对象广，能显著提高产品质量。基材的原有功能并没有改变，改性后的材料只是在表面，属于几到十几个纳米技术处理级别，例如纳米半导体芯片的蚀刻加工。 特别是对纤维材料而言，比电晕放电方式贮存时间更长，表面张力系数更高。
等离子清洗机是按照常压或真空环境下建立的低温等离子，纳米二氧化钛具有亲水性对原材料表层开展清理、活化，蚀刻等加工处理，以获取清洁、有活性的表层，改善了企业产品的吸水能力，与此同时为后道的工续（比如包装印刷、粘合、贴全、封裝)给予优良的操作界面模式，广泛运用于半导体材料、微电子技术、航天航空工艺、PCB板电路板、液晶显示屏、LED灯产业链,太阳能光伏、智能手机通讯设备、光电材料，汽车制造业，纳米科技、生物医疗等各个领域。
通过Ar等离子体清洁器等离子体处理后，纳米二氧化钛亲水性ngti基TIO2塑料薄膜密度极高，表面光滑光滑，并出现纳米级凹坑。在室温下，NGTi表面可以得到大量晶态的金红石型TiO2颗粒，但磁控溅射技术制备的TiO2塑料薄膜现象很难观察到。氩等离子表面处理器等离子体对塑料薄膜具有过渡雕刻和清洗作用，使TIO2塑料薄膜表面不连续、非高密度的颗粒被氩等离子体清洗和去除，使塑料薄膜表面光滑、高密度、光滑。
目前，纳米二氧化钛亲水性集成电路生产主要以8英寸和12英寸硅片为主。 12 英寸硅晶片的芯片线宽主要为 45 纳米至 7 纳米。 12英寸硅片的市场份额从2009年的50%增长到2015年。为 78%，预计 2020 年将超过 84%。蚀刻 12 英寸硅晶片所需的单晶硅材料的尺寸通常超过 14 英寸。该公司目前占14英寸产品收入的90%以上。总之，硅片越大，技术难度越大，对制造工艺的要求也越高。
纳米二氧化钛亲水性
低温等离子技术的电晕加工应用 YTPG-2000 Jet低温等离子喷枪加工技术目前可加工多种优质材料，印刷、吹膜、层压、涂层、光伏、金属材料、纺织材料等。 - 改级材料 1) 属于干法工艺，节能环保，可满足节能环保的需要； 2) 快速、高效、高效； 3) 处理后的材料要求严格，具有普遍的适应性； 4) 均匀性复杂形状材料的表面处理； 5) 反射低环境温度； 6) 材料的表面效应只有几百纳米。
直径为10～2纳米的颗粒分布在硅衬底表面，除极小的纳米颗粒外，大部分颗粒在等离子体的作用下被去除。等离子冲击波去除微纳米粒子的效果非常明显。直径大于0.5μM的颗粒被完全去除，小于这个尺寸的颗粒基本去除了原来数量的50%左右。等离子体发射光谱由线性光谱线叠加在连续光谱上组成，光谱范围较宽，从紫外到近红外，但主要集中在可见光范围。广谱辐射有助于增强基板表面上的粒子对等离子体辐射能量的有效吸收。
实验操作是计算机硬盘等离子表面处理器加工的塑料件大大增加了应用过程中的连续稳定执行时间，大大提高了可靠性和抗碰撞性能。另一个例子是，在医疗行业，静脉注射组末端的注射针在应用过程中与针片和针管分开。分离时，血液会从针头流出。未能及时准确地处理它会对患者构成严重威胁。针片的表面处理是非常必要的，以确保发生这样的事故。针片上的孔不大，用常用方法难以加工，而等离子体是一种离子气体，可以有效加工微孔。
2、售中服务 (A)我们将按照合同约定的交货日期，按时提供客户指定的设备。 (B) 派遣工程技术人员到您的现场安装和调试等离子清洗机设备和装置。 （3）我们提供全套设备相关技术资料，并为客户相关技术人员和操作人员提供现场培训。 3、售后服务 (A)所提供的所有设备的保修期为12个月。 （二）完善及时的售后服务体系，在您无法解决设备故障的情况下，提供24小时在线咨询，让您根据需要到达现场进行设备维修。
纳米二氧化钛具有亲水性
宏观不稳定性种类很多。除扭曲不稳定性外，纳米二氧化钛具有亲水性比较重要的有交换不稳定性，即等离子体与约束磁扬的位置发生交换；撕裂模，即等离子体被磁场撕裂成细束，等等。 宏观不稳定性通常都采用磁流体力学来研究。其中能量原理是一种很有效的方法，也就是根据偏离平衡的小位移引起系统的势能变化，来确定平衡是否稳定。这种方法特别适用于几何形状复杂的磁场。
2、通过等离子体中的高能量粒子，纳米二氧化钛具有亲水性脏污会转化为 稳定的小型分子，并借此将其移除，处理过程中脏污的厚度只允许达到几百纳米 ，因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。3、金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体，使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。
