介质阻档放电可以在常温常压中稳定进行，光引发剂与附着力产生连续的等离子源，且放电设备造价合理，因此确保了其在工业化应用时的成本和连续性；其次，介质阻档放电能够通过反应性气体（如氧气）产生能够活(化)复合材料表面的粒子，可以确保表面能够提高足够的胶接强度。
等离子表面处理的优点与设备原理真空等离子清洗机是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，光引发剂与附着力等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或郭的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有机物，以及其它化学物质，从而达到表面处理、清洗和刻蚀效果，经过等离子处理工艺可以实现有选择的表面改性。
但是，光引发剂与附着力这种方法在产生粉尘污染环境的同时，不容易达到提高制件表面粗糙度均匀的目的，容易导致复合材料制件表面产生变形破坏，从而影响制件粘接面的性能。所以可以考虑采用。一种可控制、可控制的等离子清洗设备技术，在改善材料表面的物化性能的同时，有效、精确地清除污染物，从而获得较好的粘接性能。。
等离子体处理设备的清洗范围是纳米有机和无机污染物。低压气光等离子体主要用于等离子体发生器的加工和应用。一些非聚合物无机气体(ar.n2.h2。O2等)在高频和低压的刺激下产生各种活性粒子，光引发剂与附着力如离子、激发态分子和自由基。等离子体发生器加工可分为两类:一类是稀有气体等离子体(如Ar.N2等);另一类是活性气体等离子体(如O2、H2等)。这些活性粒子可以与表面物质发生反应，刺激状态分子清洁活化表面。
光引发剂加多附着力不好吗
射频等离子体(激发频率13.56MHz)涉及物理响应类型和化学响应类型。(2)工作气体类型对等离子体清洗类型也有一定的影响。例如，惰性气体如Ar2、N2激发的等离子体主要用于物理清洗，通过脱壳效应使数据表面清洁。活性气体O2、H2等兴奋等离子体主要用于化学清洗,与活性自由基和污染物(主要是碳氢化合物)化学反应,一氧化碳,二氧化碳,水和其他小分子,从表面数据。(3)等离子体清洗的类型对清洗效果有一定的影响。
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