它不区分解决的对象，耐溶剂底材附着力促进剂可解决差异的板材，不论是金属材料、半导体材料、金属氧化物或是纤维材料都可以用等离子体较好地解决，因而，尤其比较适合不耐热、不耐熔等对处理工艺要求高的基底材料。
利用等离子体可以对精密元件表面的杂质微粒进行有效去除，底材附着力促进剂主要是基于等离子体的宽谱辐照效应和冲击波效应。将脉冲能量有效传递给基底材料以及表面的杂质微粒，由于基底和微粒的热膨胀程度不同从而使两者产生剥离。等离子体处理产生的巨大冲击力，会进一步克服微粒与基底表面的吸附力而实现杂质微粒的完全去除。
在前沿研究领域，底材附着力促进剂宽禁带半导体还处于实验室发展阶段。半导体照明蓝光LED正在使用衬底数据来划分技能路线。对于GaN基半导体，衬底材料仅选用蓝宝石((Al2O3)、SiC、Si、GaN和AlN，后两者还远未实现产业化，我们来评论一下前三种.总的来说，这三种数据各有千秋。
机器设备的表层经等离子清洗后，底材附着力促进剂无需在进行干燥生产，因此可以加快整体工艺生产流水线的生产效率；可使设备员不用受到有害溶剂的伤害；等离子体深入到物体内部的微孔和凹陷处清洗，因而不会过分考虑被清洗物体的形状；也能生产各种材料，特别适合不耐高温、不耐溶剂的材料。上述优势，使等离子体清洗水平倍受关注。。
耐溶剂底材附着力促进剂
等离子体的指向性较弱，可以穿透物体内部的微孔和凹陷，因此不需要过多考虑被清洗物体的样式。此外，这些难以清洗的部件的清洗效果类似氟利昂，使用空气等离子清洗机可以大大提高清洗效率。整个清洗过程可在几分钟内完成，具有产率高的特点。4 .大气等离子清洗机无论是金属、半导体、氧化物还是半导体、氧化物或高分子材料。特别适用于耐高温、耐溶剂的材料。
plasma清洗机清洗后，设备表层干燥，不用再处理，可增强整个工艺流水线的处理效率；可使操作人员远离有害溶剂的损坏；等离子可深入物体的微孔和凹陷，不用过多考虑清洗物体的形状；也可处理多种材料，特别适用于不耐热和不耐溶剂材料。这一些优势引起了plasma清洗机清洗的普遍关注。plasma清洗机分为化学清洗、物理清洗和物理化学清洗。对于不同的清洁对象，可选择O2、H2和Ar等艺术气体进行短时间表面处理。。
目前，氧化剂主要有O2和CO2两种。O2作为氧化剂进行氧化脱氢，其副产物更多是由于氧的高活性。丙烯选择性低，经常使用温和的氧化剂CO2，可以充分利用丰富的CO2资源，减少环境污染，因此近年来受到越来越多的关注。丙烷直接脱氢的水气反转换反应，即丙烷丙烯作为氧化剂的co2氧化反应，一方面可以获得较高的烯烃选择性，另一方面具有很强的应用前景。然而，目前重要的问题是寻找合适的催化剂使C3H8的CO2氧化反应更好。
工艺气体控制单元中常用的控制阀有真空电磁阀、止回阀（止回阀）、气动球阀等。真空回路控制中常用的控制阀有高真空气动挡板阀、手动高真空角阀、电磁真空皮带膨胀阀等。 1 用于工艺气体控制的通用控制阀(1) 真空电磁阀真空等离子清洗机在将阀门连接到真空室之前，必须确保真空室内的工作真空度在设计范围内。真空电磁阀用于传统的工艺气体控制，因为它们必须满足高真空密封性能。
耐溶剂底材附着力促进剂
电晕预处理的缺点是表面活化能力相对较低，底材附着力促进剂处理后的表面效果有时不均匀。薄膜的反面也会进行处理，工艺要求有时会避免。而且电晕处理得到的表面张力不能长期保持稳定，处理后的产物只能保存有限的时间。大气压等离激元处理技术大气等离子体是在大气压下产生的。也就是说，不需要使用真空室。
发射光线在金属表面清洗过程中的作用 等离子体产生的同时会发射出光线，底材附着力促进剂它具有很高的能量且穿透力很强，金属表面污物分子在光线的作用下，分子键断裂而被分解，从而有利于推动黏附在金属表面上的污染物分子发生进一步的活(化)反应。
