不同等离子体产生的自偏压不一样,隧道内的附着力减小超声等离子体的自偏压为 0V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏,而且三种等离子体的机制不同。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响最大,因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。

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(3)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,隧道内的附着力为什么减小使气体被击穿,并通过辉光放电而发生离子化和产生等离子体。让在真空室产生的等离子体完全笼罩在被处理工件,开始清洗作业。一般清洗处理持续几十秒到几分钟。(4)清洗完毕后切断高频电压,并将气体及汽化的污垢排出,同时向真空室内鼓入气体,并使气压升至一个大气压。

  原子团等自由基与物体表面的反应:  由于这些自由基呈电重型,隧道内的附着力为什么减小存在寿命较长,而且在离子体中的数量多于离子,因此自由基在等离子体中发挥着重要作用,自由基的作用主要表现在化学反应过程中能量传递的"活化"作用,处于激发状态的自由基具有较高的能量,因此易于与物体表面分子结合时会形成新的自由基,新形成的自由基同样处于不稳定的高能量状态,很可能发生分解反应,在变成较小分子同时生成新的自由基,这种反应过程还可能继续进行下去,最后分解成水、二氧化碳之类的简单分子。

今天给大家普及一下等离子清洗电源的频率知识,隧道内的附着力减小40KHZ电源,也就是俗称的中频电源,简单的说能量高,但等离子密度低。真空等离子清洗基本选用中频电源。这是由于真空腔体尺寸大(通常大于 L,电极板数量较多,相对于射频中频来说是高输出电源。5000W、10KW、20KW等本身更稳定)产生的等离子体中的分子和离子具有高动能,高渗透性,强调物理反应。

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因此,一方面需要较高的外加电压才能在大气压下产生气体击穿;另一方面,即使在高外加电压条件下发生气体击穿过程,在如此高的电场强度下,强烈的电子雪崩效应也会使放电迅速进入灯丝放电或电弧放电模式,因此很难获得温度接近室温的均匀辉光放电等离子体。。等离子清洗机是利用等离子高能将等离子集中于等离子表面改性,或等离子表面处理的应用。等离子体清洗是利用等离子体的高能量和不稳定性。

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