典型的等离子体物理清洗工艺是反应室内氩气作辅助处理的等离子体清洗；氩本身是惰性气体，附着力的润滑油等离子体氩不与表面发生反应，而是通过离子轰击清洁表面。典型的等离子体化学清洗工艺是氧等离子体清洗。等离子体产生的氧自由基非常活跃，容易与碳氢化合物反应生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，从而去除表面污染物。
等离子清洁剂是一种干洗工艺，氧化膜与基体的附着力的关系主要清洁非常小的氧化物和污染物。工作气体用于在电磁场的作用下激发等离子体，与物体表面发生物理化学反应，达到清洗的目的。超声波清洗机是主要进行清洗的湿式洗涤器。明显的灰尘和污染物，属于粗洗。它是利用液体（水或溶剂）在超声波振动的作用下对物体进行清洗，以达到清洗的目的。使用目的不同。等离子清洗机主要是为了提高清洗材料表面的粘合效果。作品表面不一定要清洗，但比不使用时的粘合效果要高一些。
在 1970 年代初期，氧化膜与基体的附着力的关系使用放射性钴产生的伽马射线进行辐射消毒成为一种简单有效的消毒方法。伽马射线通过破坏交联链来分解大多数聚合物。用给定剂量的伽马射线辐照需要很长时间来分解和消毒交联聚合物。使用伽马射线灭菌时，对辐射源的操作、布置、安装和使用都有严格的程序。此外，辐射源应存放在特定位置，并严格按程序使用。过氧化氢等离子消毒器的等离子放电产生的高反应性自由基和离子是实现无菌的关键因素。
产生的激发态氧原子比普通氧原子活性更强，附着力的润滑油能氧化污染润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物，生成二氧化碳和水。同时，等离子射流还具有机械冲击力，起到擦洗作用，使玻璃表面的污染物迅速从玻璃表面分离出来，达到高（高效）清洗的目的。除机械作用外，等离子体清洗机主要是活性氧物种的化学作用。等离子体中Ar*的激发态激发氧分子进入激发状态态氧原子的高能电子撞击氧分子使其分解，形成被激发态氧原子污染的润滑油和硬脂酸。
氧化膜与基体的附着力的关系
手机面板等离子清洗机，结构简单，不需要吸尘，可在室温下清洗，产生的激发态氧原子比普通氧原子更有活性，可污染润滑油和硬脂酸中的碳氢化合物氧化，二氧化碳和水。等离子射流还具有机械冲击力，起到清洗的作用，使玻璃表面的污染物迅速远离玻璃表面，达到高效清洗的目的。
各厂家生产的真空泵是多用途润滑油，减少了真空系统的摩擦，这种方法虽然增加了一系列的过滤单元可以解决这个问题，但这会导致真空泵制造成本的增加和维护的困难，这也导致了真空泵的结构更加复杂，故障率增加，而真空泵腔环境污染问题一直没有得到很好的解决。无油干式真空泵的发展为真空泵系统的清洗提供了新的思路。
从微观上分析，该介质在强电弧的作用下，将空气电离，在密闭空间内产生等离子体，激发出大量高能电子，对低分子量的H2、CH4和人体无害。一种物质。 2、等离子废物处理工艺等离子废物处理系统主要包括供给系统、等离子燃烧处理系统、熔融产物处理系统、烟气处理系统、余热利用系统、冷却和密封系统。使用专用运输车辆将垃圾运送到专用垃圾处理厂时，将有价值的垃圾分离出来，将不可回收的垃圾放入封闭的进料系统进行干燥。
电源完整性这种办法对进步瞬态电流的呼应速度， 下降电源分配体系的阻抗都十分有用。4.1 从储能的视点来阐明电容退耦原理 在制作电路板时， 一般会在负载芯片周围放置很多电容， 这些电容就起到电源退耦效果。电源完整性其原理可用图 1 阐明。 当负载电流不变时，其电流由稳压电源部分供给，即图中的I0，方向如图所示。
氧化膜与基体的附着力的关系
现低温等离子体广泛应用于多种生产领域。 在使用等离子去胶机（等离子清洗机）中，氧化膜与基体的附着力的关系我们都知道，去胶气体为氧气。把需要清洗的晶片放入真空等离子去胶机反应系统中，受高频及微波能量效果，电离发生氧离子、游离态氧原子、氧分子和电子等混合的等离子体形成辉光柱。具有强氧化才能的游离态氧原子在高频电压效果下与光刻胶膜反应，最终完成。
2、等离子清洗气体进入真空室，附着力的润滑油并保持真空室压力稳定。根据清洗材料的不同，可分别使用氧气、氩气、氢气、氮气、氟等气体。在真空室中，在电极与接地装置之间施加高频电压，使气体通过辉光放电被击穿、电离，形成等离子体。加工工件在真空室产生的等离子体中被完全涂覆，清洗操作开始。一般清洗过程持续数十秒至数十分钟。清洗完毕后，切断电源，用真空泵将污垢蒸发。
