由于体积上的缺点，等离子体活化水土壤盐分研究人员开发了一种低温等离子体发生器。如果气压低于 10 PA，则不会发生异常辉光放电。等离子体可以通过从高频激发的微波或热射线发射的高能电子冲击电离产生。这些低压等离子体充满了整个处理空间，含有大量的活性原子并提高了氮化效率。在射频低温等离子发生器渗氮中，低温等离子发生器的产生和衬底偏压是分开控制的，因此离子能量转换和到衬底表面的通量可以分开控制。
由于工作气压相对较低，香港城市大学等离子体实验室耗气量会相应减少（减少）。在自由基氮化过程中，低能量变换直流辉光放电产生可用于氮化的NH自由基。与气体氮化工艺类似，在整个工艺过程中都需要外部电源来加热工件。工业不仅可以精确控制表面拓扑，还可以选择是否形成复合层。您还可以在不改变表面结构属性的情况下控制复合层的厚度和扩散层的深度。冷等离子发生器。如果金属表面有狭缝或孔洞，则可以通过此工艺轻松实现氮化。
传统低温等离子发生器的氮化工艺采用直流或脉冲异常辉光放电。该工艺对于低合金钢和工具钢的渗氮是可以接受的，等离子体活化水土壤盐分但不适用于不锈钢，尤其是具有奥氏体结构的钢。由于高温氮化时CRN析出，金属表面坚硬耐磨，但有易腐蚀的缺点。低温低压放电技术成功解决了这一问题，该工艺产生的改质层中含有称为扩展奥氏体的富氮层。
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等离子聚乙烯薄膜沉积在硅橡胶表面后，硅橡胶对氧气的渗透系数显着降低。反渗透膜由含氮单体制备。高达 98% 的盐分。聚合物微囊一般用于体内缓释药物，也可采用等离子聚合技术。微胶囊表面形成反渗透膜层。结果表明，等离子聚合物薄膜对检测元件的应用、放电功率等因素对薄膜电阻有很大影响。用各种乙烯基单体和Ar辉光放电处理的织物的疏水性和染色性能在很短的时间内得到改善。 2.3 表面接枝是通过等离子体接枝聚合材料表面。
用于碳耐磨涂层金属和塑料（如金刚石）的最新化学气相沉积技术是将含碳气体引入等离子体。该涂层耐化学品，无针孔，不透水，可防止基材被多种化学品侵蚀。你也可以应用它。氧气用于玻璃刮水器后显着降低硅橡胶的渗透系数，在电脑磁盘上涂上低摩擦涂层以减少磁头碰撞，在硅橡胶表面沉积等离子聚乙烯薄膜。渗透膜可以阻挡高达 98% 的盐分。体内缓释药物一般采用高分子微胶囊，也可采用等离子聚合技术在表面形成反渗透膜层。
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辉光放电是化学等离子体实验的重要工具，香港城市大学等离子体实验室但由于气体压力低的限制，工业应用的连续生产困难，应用成本高，不能广泛用于工业生产。目前的应用范围仅限于实验室、照明产品和半导体行业。
ROTH 等人使用离子阱原理描述了 APGD。也就是说，香港城市大学等离子体实验室如果使用的工作电压频率高到足以在半个周期内捕获板之间的正离子，但不足以捕获电子，它们将保留。气隙空间电荷会影响循环后期的放电，显着降低所需的放电场强并导致产生均匀的 APGD。他们在实验室中使用气体放电等离子体实验室设备实现了 AR、HE 和空气的“APGD”。
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