实验结果表明，拉拔式附着力实验大气等离子体处理过程中考虑了时间、功率、气体流量、氧含量、氦流量和喷嘴高度等参数，导致膜的表面形貌变化明显，化学结构变化较小。腐蚀率厚度和溶出度随时间逐渐增大，达到最大值后逐渐减小。当氧含量比一定时，腐蚀速率随着氦/氧混合流量的增加而增加。随着氦流量的增加，腐蚀先增大后减小。腐蚀速率随功率的增大而增大，随喷嘴间距的增大而减小。经大气等离子体处理后，织物表面的尺寸破碎，洗涤后样品表面干净。
在引入 PLC 之前，拉拔式附着力实验所有等离子清洗机的控制系统主要基于继电器控制。继电器控制通常有两种控制方式：按钮控制和触点控制。按钮控制是指使用手动控制器来控制电气设备的电路。而触点控制则使用继电器进行逻辑控制，其控制对象既包括电气设备电路，也包括继电器本身的线圈。继电器控制是利用电气元件中的机械触点串联和并联形成逻辑控制电路。实验真空等离子清洗机由按钮操作控制。
上述研究结果表明：在一定等离子体发生器条件下，胶带拉拔式附着力检测视频为获得较高的C2烃收率及合适的H2/CO比值，应选择较低CO2加入量。在本实验条件下，其值应在20%～35%。C2烃分布随着体系内CO2浓度增加，C2H2的摩尔分数随之降低；而C2H6、C2H4的摩尔分数则呈现不断上升态势。
挤压材料 该设备将前座挤压到装卸转移系统中。 (B)装卸料传动系统通过压辊和皮带传动将物料输送到换料通道的较高平台，胶带拉拔式附着力检测视频并通过供料系统放置物料。 (C) 连接材料的通道被传输到等离子体反应室的底部，真空室被关闭并通过改进的系统泵送以进行等离子体清洁。当高台移动到清扫位置时，低台移动到第二层收料的接收位置。高台清洗后与低台通讯，低台等离子清洗，高台返回接收位置。
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等离子处理设备主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。等离子处理设备的工作原理是化学过程和物理过程共同作用的结果。
（5）微波放电：微波放电是将微波能量转化为气体分子的内能，使之激发、电离以发生等离子体的一种气体放电形式。微波放电的电离度高，气体具有更高的活化程度，因而能在更低温度下获得和维持具有更高能量的等离子体，更适合对温度敏感材料如有机薄膜的处理，但设备造价较高。
在全球市场份额方面，2008年行业引入45nm节点后，单片晶圆清洗设备超越自动清洗设备成为最主导的清洗设备。据ITRS称，45nm工艺节点的量产始于2007年和2008年。此时松下、英特尔、IBM、三星等开始45nm量产。2008年底，中芯国际获得了IBM的批量生产45纳米工艺的许可，成为中国第一家转向45纳米工艺的半导体公司。
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