这是辉光放电的一个显著特点，电极上的附着力而且在正常辉光放电中，两电极间的电压不随电流变化。由处于能量活跃的激发态的原子、离子或分子向下跃迁发光而形成的等离子体的颜色。由于每种气体中的能级有不同的能量转换，每种工艺气体表现出不同的发光特性，从而产生不同的颜色特性。
通过在 15-25 kHz 的频率下保持电极之间高达 80 kV 的电位差，分析气泡在电极上的附着力可以在高速线上对 3D 对象进行一致的表面处理。在这些条件下，横截面为 4 英寸 (mm) 的物体在处理室中连续移动，可以在线处理。电表面处理系统由高频发生器、高压变压器和处理电极组成。发生器产生的输出信号会根据负载阻抗在 15-25 kHz 范围内自动调整频率。这优化了可用于治疗的功率。
负电晕的击穿电压高于正电晕，分析气泡在电极上的附着力因为正负电晕的放电机制不同，空间电荷分布有利于正电晕。如果两个电极为小曲率半径的电极，则形成双极电晕，正负电晕共存，在外部区域流动的电流是双向的。它由带正电和带负电的粒子组成。在相同条件下，双极电晕的启动电压会低于单极电晕的启动电压。电晕放电的机理不同于等离子表面清洁剂。
辉光放电时的气压对材料处理效果有很大影响，电极上的附着力还与放电功率、气体成分、流速、材料种类等因素有关；不同的放电方式、工质状态以及上述影响等离子体产生的因素可以组合成各种低温等离子体处理设备；。由于等离子体处理只作用于材料的表层，处理后材料表面的物理化学变化也发生在这一层，所以在研究等离子体处理的时效性时，主要采用一些关于材料表面的物理化学分析方法。
电极上的附着力
根据物质反应原理，等离子体火焰机清洗一般是由无机气体引起的等离子体气相材料吸附在固体表面上的吸附基团与固体表面分子发生反应，产物的形成分子分析，产物的形成分子分析，气相反应残留物的形成和表面分离。目前，等离子清洗机主要采用箱式清洗机对机架或芯片进行清洗，等离子清洗机通常由清洗室、气源、动力源和真空泵四部分组成。
一方面，大气压等离子体处理器的电离辐射释放能量，造成等离子体能量的损失。同时，一些气体电离辐射也会激发光离子化，从而有效地激发反应体系。 ，等离子电离辐射携带大量等离子内部信息。基于电离辐射频率和强度研究或时间分析，可以诊断等离子体密度、温度和粒子状态，并可以获得有关反应过程的相关信息。在大气压等离子体处理器中，等离子体具有三种主要的电离辐射过程：激发电离辐射、复合电离辐射和源电离辐射。
等离子体清洗机的等离子体活化蚀刻：材料表面蚀刻-物理作用等离子体清洗机生产过程中产生的大量离子、激发分子、自由基等活性颗粒作用于固体样品表面，不仅去除了表面原有的污染物和杂质，还会产生蚀刻效应，使样品表面变得粗糙，形成许多细小的坑洞，从而增加了样品的比表面积。提高固体表面的润湿性。
适用于锯片、晶圆减薄、晶圆抛光和研磨等去离子水清洗工艺。尤其是 CVD 用于晶圆抛光后的清洁。单晶等离子发生器的应用与自动清洗台的应用没有太大区别。两者的主要区别在于清洗方式和精度要求，其中 45nm 是一个重要的边界。自动清洗台是一种多层同时清洗，设备成熟，产能高，但单晶清洗设备是逐层清洗，背面倾斜，清洗精度高，所以背面是可以有效清洗。防止倾斜表面和边缘、晶片的相互污染。
分析气泡在电极上的附着力
用于金属表面除油和清洗的等离子表面处理设备等离子表面处理设备最早出现在德国，电极上的附着力是世界上最早的研发和实践场所。最早只是常温等离子设备。随着科学技术的发展，出现了低温低压等离子体设备和等离子体射频电源。深圳是一家与德国等离子技术等离子设备制造商合作的公司，也是中国区总代理公司，建立了长期的友谊。等离子清洗机设备主要用于清洗、蚀刻、砂光和表面制备等，采用三种不同的射频发射器，满足不同清洗效率和清洗效果的需要。
表 3-3 显示了各类催化剂在大气等离子体等离子体影响下的催化活性。从表3-3可以看出，电极上的附着力在纯等离子体条件下，C2H6和CO2的转化率分别为33.8%和22.7%，C2H4和C2H2的总收率为12.7%。在反应体系中引入负载型稀土氧化物催化剂（LA2O3/Y-AL2O3和CEO2/Y-AL2O3）提高了C2H6的转化率，提高了C2H4的选择性和收率，提高了C2H2的选择性和收率。率略低。
